Arkana Maska Korygująca Twarz W Strefie „V” Płat

38,00

Maska o anatomicznym kształcie nasączona esencją bogatą w składniki aktywne remodelujące podbródek i owal twarzy w strefie „V.

Pojemność: płat
Kod produktu: 65005
INCI
AQUA, BUTYLENE GLYCOL, TRIMETHYLOPROPANE TRICAPRYLATE / TRICAPRATE, CETEARETH-20, CETEARYL ALCOHOL, CETETH-24, CHOLETH-24, DIMETHICONE, DISODIUM EDTA, GLYCERIN, GLYCERYL STEARATE, PEG-100 STEARATE, PHOSPHOLIPIDS, SODIUM HYALURONATE, PROPYLENE GLYCOL, STEARETH-2, XANTHAN GUM, NIACINAMIDE, HYDROXYETHYL UREA, UREA, LEUCONOSTOC / RADISH ROOT FERMENT FILTRATE, ORYZA SATIVE (RICE) EXTRACT, PUNICA GRANATUM FRUIT EXTRACT, RHODIOLA ROSEA ROOT EXTRACT, PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL, DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE, SOLUBLE COLLAGEN, EUTERPE OLERACEA FRUIT EXTRACT, RHODOCHROSITE EXTRACT, CHLORPHENESIN, PHENOXYETHANOL, IODOPROPYL BUTYLCARBAMATE

Opis

Maska o anatomicznym kształcie nasączona esencją bogatą w składniki aktywne remodelujące podbródek i owal twarzy w strefie „V.

Pojemność: płat
Kod produktu: 65005
INCI
AQUA, BUTYLENE GLYCOL, TRIMETHYLOPROPANE TRICAPRYLATE / TRICAPRATE, CETEARETH-20, CETEARYL ALCOHOL, CETETH-24, CHOLETH-24, DIMETHICONE, DISODIUM EDTA, GLYCERIN, GLYCERYL STEARATE, PEG-100 STEARATE, PHOSPHOLIPIDS, SODIUM HYALURONATE, PROPYLENE GLYCOL, STEARETH-2, XANTHAN GUM, NIACINAMIDE, HYDROXYETHYL UREA, UREA, LEUCONOSTOC / RADISH ROOT FERMENT FILTRATE, ORYZA SATIVE (RICE) EXTRACT, PUNICA GRANATUM FRUIT EXTRACT, RHODIOLA ROSEA ROOT EXTRACT, PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL, DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE, SOLUBLE COLLAGEN, EUTERPE OLERACEA FRUIT EXTRACT, RHODOCHROSITE EXTRACT, CHLORPHENESIN, PHENOXYETHANOL, IODOPROPYL BUTYLCARBAMATE

Ceneo

Uroda

Pielęgnacja twarzy

Maseczki

Arkana Maska Korygująca Twarz W Strefie „V” Płat

nivea silver protect
, maseczka przeciwtrądzikowa
, podkład nyx
, hebe grzybowska
, kominki wzory
, perfumy versace versense
, szczotka do włosów olivia garden
, hugo boss perfumy damskie
, fragrano pl opinie
, nabla alchemy
, nacomi sklep
, soraya plante serum

yyyyy